|
|
|
||||||||||||
Новости Нужна антенна? Просто пшикни из баллончика! Новый подход в тестировании объемных кристаллов Семь университетов США пытаются создать квантовую память Петербургский метрополитен переходит на российские светодиоды
Российский рынок электроники 2011/2012: итоги и прогнозы США – самая вредоносная страна в мире Комиссия за участие в сети не взымается.
Новый стратегический план развития полупроводниковых технологий (ITRS)
РанееСемь университетов США пытаются создать квантовую памятьСемь университетов США совместными усилиями пытаются определить наилучший метод создания квантовой памяти на основе взаимодействия света и вещества. На пятилетние исследования организация Air Force Office of Scientific Research выделила 8,5 млн долл. Тепловые импульсы для записи данных с терабайтными скоростямиМеждународному коллективу ученых удалось разработать метод магнитной записи, которая осуществляется в 100 раз быстрее, чем позволяют современные технологии записи данных на жесткий диск. И снова — шумный спор о мемристорахНа сайте arXiv.org, представляющем собой крупнейший архив научных статей по физике, математике, астрономии, информатике и биологии, разгорелась нешуточная дискуссия на тему о мемристоре — возможном компоненте энергонезависимой памяти будущего. |
21 февраля 2012 Электронно-лучевая литография спешит в массыTSMC получит один из первых предпродажных экземпляров оборудования Matrix для безмасковой электронно-лучевой литографии.К
омпания Taiwan Semiconductor Manufacturing Co (TSMC) получит в своё распоряжение один из первых предпродажных экземпляров оборудования Matrix для безмасковой электронно-лучевой литографии. Ранее TSMC уже использовала оборудование Mapper Lithography для изготовления прототипов (пробная платформа для безмасковой многолучевой литографии для пластин 300 мм). При изготовлении схемы без шаблона травление проводится электронным лучом напрямую. Энергия пучка составляет 5 кэВ, длина волны — 0,02 нм. Разрешение получается сравнимым с разрешением оптической литографии с длиной волны 193 нм.
Matrix 10.10 – система из 10 кластеров, каждый из которых изготавливает по 10 подложек в час Первые образцы оборудования предназначены для французской CEA-Leti и TSMC. Конечная версия системы будет генерировать 13260 электронных лучей, выпуская 10 подложек в час. В текущем году бета-версия Matrix 1.1 будет обеспечивать только 10% этой мощности. По плану следующая версия будет выдавать максимальную производительность, после чего выйдет сборка из 10 станков, способная изготавливать 100 подложек в час. Конкретный срок поставки оборудования пока неизвестен. В мире насчитывается всего несколько компаний, занимающихся производством оборудования для электронно-лучевой безмасковой литографии: IMS Nanofabrication (Австрия), KLA-Tencor (США) и Mapper Lithography. Источник: EE Times Читайте также:
function AddBookmark(url, title) {
if (window.sidebar) { // Mozilla Firefox Bookmark
window.sidebar.addPanel(title, url, "");
} else if( window.external ) { // IE Favorite
window.external.AddFavorite( url, title); }
else if(window.opera && window.print) { // Opera Hotlist
return true;
}
}
-->
function ShowRecommend() {
d = document.getElementById('recommendDiv');
if (d) {
display = d.style.display;
newValue = 'none';
switch (display) {
case 'none':
newValue = 'block';
break;
default:
newValue = 'none';
break;
}
d.style.display = newValue;
}
}
-->
Комментарии0 / 0
0 / 0
|
Комментарии читателейГорячие темыСША – самая вредоносная страна в мире Нужна антенна? Просто пшикни из баллончика! Может ли один «Микрон» обеспечить технологическую безопасность России? WiMAX в России умер? Да будет LTE! Intel раскрывает секреты процессоров Ivy Bridge и откладывает их выпуск на лето |
||||||||||
|
|
||||||||||||
| |
|
|||||||||||