21 февраля 2012

Электронно-лучевая литография спешит в массы

TSMC получит один из первых предпродажных экземпляров оборудования Matrix для безмасковой электронно-лучевой литографии.

омпания Taiwan Semiconductor Manufacturing Co (TSMC) получит в своё распоряжение один из первых предпродажных экземпляров оборудования Matrix для безмасковой электронно-лучевой литографии. Ранее TSMC уже использовала оборудование Mapper Lithography для изготовления прототипов (пробная платформа для безмасковой многолучевой литографии для пластин 300 мм).

При изготовлении схемы без шаблона травление проводится электронным лучом напрямую. Энергия пучка составляет 5 кэВ, длина волны — 0,02 нм. Разрешение получается сравнимым с разрешением оптической литографии с длиной волны 193 нм.

Matrix 10.10 – система из 10 кластеров, каждый из которых изготавливает по 10 подложек в час

Первые образцы оборудования предназначены для французской CEA-Leti и TSMC. Конечная версия системы будет генерировать 13260 электронных лучей, выпуская 10 подложек в час. В текущем году бета-версия Matrix 1.1 будет обеспечивать только 10% этой мощности. По плану следующая версия будет выдавать максимальную производительность, после чего выйдет сборка из 10 станков, способная изготавливать 100 подложек в час.

Конкретный срок поставки оборудования пока неизвестен.

В мире насчитывается всего несколько компаний, занимающихся производством оборудования для электронно-лучевой безмасковой литографии: IMS Nanofabrication (Австрия), KLA-Tencor (США) и Mapper Lithography.

Источник: EE Times